Ränikarbiidiga kaetud epitaksiaalreaktori tünn

Lühikirjeldus:

Semicera on aastaid materjalide uurimisega tegelenud kõrgtehnoloogiline ettevõte, millel on juhtiv teadus- ja arendusmeeskond ning integreeritud teadus- ja arendustegevus ning tootmine. Pakkuge kohandatud ränikarbiidiga kaetud epitaksiaalreaktori tünni et arutada meie tehniliste ekspertidega, kuidas saada oma toodetele parim jõudlus ja turueelised.

 


Toote üksikasjad

Tootesildid

Miks on ränikarbiidi kate?

Pooljuhtide väljas on iga komponendi stabiilsus kogu protsessi jaoks väga oluline. Kuid kõrge temperatuuriga keskkonnas grafiit oksüdeerub ja kaob kergesti ning SiC kate võib pakkuda grafiidiosadele stabiilset kaitset. AastalSemicerameeskond, meil on oma grafiidi puhastamise töötlemise seadmed, mis suudavad kontrollida grafiidi puhtust alla 5 ppm. Ränikarbiidkatte puhtus on alla 0,5 ppm.

 

Meie eelis, miks valida Semicera?

✓Kvaliteetne Hiina turul

 

✓Hea teenindus teile alati, 7*24 tundi

 

✓Lühike tarnekuupäev

 

✓Väike MOQ teretulnud ja vastu võetud

 

✓Kohandatud teenused

kvartsi tootmisseadmed 4

Rakendus

Epitaksia kasvu sustseptor

Räni/ränikarbiidi vahvlid peavad elektroonikaseadmetes kasutamiseks läbima mitu protsessi. Oluliseks protsessiks on räni/sic epitaksia, mille käigus kantakse räni/sic vahvleid grafiitalusel. Semicera ränikarbiidiga kaetud grafiitpõhja erilisteks eelisteks on ülikõrge puhtusaste, ühtlane kate ja ülipikk kasutusiga. Neil on ka kõrge keemiline vastupidavus ja termiline stabiilsus.

 

LED-kiipide tootmine

MOCVD reaktori ulatusliku katmise ajal liigutab planetaarne alus või kandja substraadi vahvlit. Alusmaterjali jõudlus mõjutab suuresti katte kvaliteeti, mis omakorda mõjutab laastu praagi määra. Semicera ränikarbiidiga kaetud alus suurendab kvaliteetsete LED-plaatide tootmise efektiivsust ja minimeerib lainepikkuse hälbeid. Samuti tarnime täiendavaid grafiidikomponente kõikidele praegu kasutusel olevatele MOCVD reaktoritele. Ränikarbiidiga saame katta peaaegu iga komponendi, isegi kui komponendi läbimõõt on kuni 1,5M, saame katta ränikarbiidiga.

Pooljuhtide väli, oksüdatsiooni difusiooniprotsess, jne.

Pooljuhtprotsessis nõuab oksüdatsioonipaisutamisprotsess toote kõrget puhtust ning Semicera pakume enamiku ränikarbiidist osade jaoks kohandatud ja CVD katmisteenuseid.

Järgmisel pildil on jämedalt töödeldud Semicea ränikarbiidi läga ja ränikarbiidist ahju toru, mida puhastatakse 1000-tasetolmuvabatuba. Meie töötajad töötavad enne katmist. Meie ränikarbiidi puhtus võib ulatuda 99,99% -ni ja kattekihi puhtus on suurem kui 99,99995%..

 

Ränikarbiidist pooltoode enne katmist -2

Toores ränikarbiidist laba ja SiC protsessitoru puhastamisel

SiC toru

Ränikarbiidist vahvelpaat CVD SiC kaetud

Semi-cera' CVD SiC jõudluse andmed.

Poolkeraamika CVD SiC katte andmed
Puhtus sic
Semicera Töökoht
Semicera töökoht 2
Semicera laohoone
Seadmete masin
CNN töötlemine, keemiline puhastus, CVD katmine
Meie teenus

  • Eelmine:
  • Järgmine: