PART/1CVD (keemiline aurustamise-sadestamine) meetod: temperatuuril 900–2300 ℃, kasutades tantaali- ja süsinikuallikatena TaCl5 ja CnHm, redutseeriva atmosfäärina H2, kandegaasi Ar2, reaktsioonisadestamise kilet.Valmistatud kate on kompaktne, ühtlane ja kõrge puhtusastmega.Siiski on mõned probleemid...
Loe rohkem