SiC-kattega protsess grafiitpõhjaga ränikarbiidiga kaetud grafiidikandjate jaoks

Lühikirjeldus:

Semicera Energy Technology Co., Ltd. on täiustatud pooljuhtkeraamika juhtiv tarnija. Meie peamiste toodete hulka kuuluvad: ränikarbiidist söövitatud kettad, ränikarbiidist paadihaagised, ränikarbiidist vahvellaevad (PV & Semiconductor), ränikarbiidist ahjutorud, ränikarbiidist konsoollabad, ränikarbiidist padrun, ränikarbiidist talad, samuti katted ja SiC TaC katted.
Tooteid kasutatakse peamiselt pooljuhtide ja fotogalvaaniliste seadmete tööstuses, näiteks kristallide kasvatamise, epitakseerimise, söövitamise, pakendamise, katmise ja difusioonahjude seadmetes.

 

Toote üksikasjad

Tootesildid

Kirjeldus

Rakendamisel säilitame väga täpsed tolerantsidSiC kate, kasutades ülitäpset töötlemist, et tagada ühtlane sustseptori profiil. Toodame ka ideaalsete elektritakistuse omadustega materjale kasutamiseks induktiivküttega süsteemides. Kõigil valmiskomponentidel on puhtuse ja mõõtmete vastavussertifikaat.

Meie ettevõte pakubSiC katetöötlemisteenused CVD meetodil grafiidi, keraamika ja muude materjalide pinnal, nii et süsinikku ja räni sisaldavad spetsiaalsed gaasid reageerivad kõrgel temperatuuril, et saada kõrge puhtusastmega SiC molekulid, kaetud materjalide pinnale sadestuvad molekulid, moodustades SIC kaitsekihi. Moodustunud SIC on tugevalt seotud grafiitpõhjaga, andes grafiidialusele erilised omadused, muutes grafiidi pinna kompaktseks, poorsusevabaks, vastupidavaks kõrgele temperatuurile, korrosioonikindlusele ja oksüdatsioonikindlusele.

gf (1)

CVD-protsess tagab äärmiselt kõrge puhtuse ja teoreetilise tiheduseSiC kateilma poorsuseta. Veelgi enam, kuna ränikarbiid on väga kõva, saab seda poleerida peeglitaoliseks pinnaks.CVD ränikarbiidi (SiC) katepakub mitmeid eeliseid, sealhulgas ülikõrge puhtusastmega pind ja ülimalt kulumiskindlus. Kuna kaetud toodetel on suurepärane jõudlus kõrgvaakumis ja kõrgel temperatuuril, sobivad need ideaalselt pooljuhtidetööstuses ja muus ülipuhas keskkonnas kasutamiseks. Pakume ka pürolüütilise grafiidi (PG) tooteid.

 

Peamised omadused

1. Kõrge temperatuuri oksüdatsioonikindlus:
oksüdatsioonikindlus on ikka väga hea, kui temperatuur on kuni 1600 C.
2. Kõrge puhtusastmega: valmistatud keemilise aurustamise-sadestamise teel kõrgel temperatuuril kloorimise tingimustes.
3. Erosioonikindlus: kõrge kõvadus, kompaktne pind, peened osakesed.
4. Korrosioonikindlus: happe, leelise, soola ja orgaanilised reagendid.

Põhi-05

Põhi-04

Põhi-03

CVD-SIC katete peamised spetsifikatsioonid

SiC-CVD
Tihedus (g/cc) 3.21
Paindetugevus (Mpa) 470
Soojuspaisumine (10-6/K) 4
Soojusjuhtivus (W/mK) 300

Rakendus

CVD ränikarbiidi katet on juba rakendatud pooljuhtide tööstuses, nagu MOCVD alus, RTP ja oksiidisöövituskamber, kuna räni nitriidil on suur soojuslöögikindlus ja see talub suure energiaga plasmat.
-Ränikarbiidi kasutatakse laialdaselt pooljuhtides ja katetes.

Rakendus

Tarnevõime:
10000 tükki kuus
Pakkimine ja kohaletoimetamine:
Pakkimine: standardne ja tugev pakkimine
Polüekott + kast + karp + kaubaalus
Port:
Ningbo/Shenzhen/Shanghai
Tarneaeg:

Kogus (tükid) 1-1000 >1000
Hinnang Kellaaeg (päevad) 30 Läbirääkimistel
Semicera Töökoht
Semicera töökoht 2
Seadmete masin
CNN töötlemine, keemiline puhastus, CVD katmine
Meie teenus

  • Eelmine:
  • Järgmine: