-
Ränikarbiidist vahvelpaatide suurepärane jõudlus kristallide kasvus
Kristallide kasvuprotsessid on pooljuhtide valmistamise keskmes, kus kvaliteetsete vahvlite tootmine on ülioluline. Nende protsesside lahutamatuks komponendiks on ränikarbiidi (SiC) vahvel. SiC vahvlipaadid on pälvinud tööstuses märkimisväärset tunnustust tänu oma välja arvatud...Loe edasi -
Grafiitküttekehade tähelepanuväärne soojusjuhtivus ühekristallahjude soojusväljadel
Monokristallahjude tehnoloogia vallas on soojusjuhtimise tõhusus ja täpsus ülimalt tähtsad. Optimaalse temperatuuri ühtluse ja stabiilsuse saavutamine on kvaliteetsete monokristallide kasvatamisel ülioluline. Nende väljakutsete lahendamiseks on grafiidist küttekehad kujunenud märkimisväärseks...Loe edasi -
Kvartskomponentide termiline stabiilsus pooljuhtide tööstuses
Sissejuhatus Pooljuhtide tööstuses on termiline stabiilsus ülimalt oluline, et tagada kriitiliste komponentide usaldusväärne ja tõhus töö. Kvarts, ränidioksiidi (SiO2) kristalne vorm, on pälvinud märkimisväärse tunnustuse oma erakordsete termilise stabiilsuse omaduste tõttu. T...Loe edasi -
Tantaalkarbiidkatete korrosioonikindlus pooljuhtide tööstuses
Pealkiri: Tantaalkarbiidkatete korrosioonikindlus pooljuhtide tööstuses Sissejuhatus Pooljuhtide tööstuses seab korrosioon olulise väljakutse kriitiliste komponentide pikaealisuse ja jõudluse osas. Tantaalkarbiidi (TaC) katted on kujunenud paljulubavaks lahenduseks ...Loe edasi -
Kuidas mõõta õhukese kile lehe takistust?
Kõik pooljuhtide valmistamisel kasutatavad õhukesed kiled omavad takistust ja kiletakistus mõjutab otseselt seadme jõudlust. Tavaliselt me ei mõõda kile absoluutset takistust, vaid kasutame selle iseloomustamiseks lehe takistust. Mis on lehtede vastupidavus ja mahutakistus ...Loe edasi -
Kas CVD ränikarbiidkatte pealekandmine võib komponentide tööiga tõhusalt parandada?
CVD ränikarbiidkate on tehnoloogia, mis moodustab komponentide pinnale õhukese kile, mille tulemusel on komponentidel parem kulumiskindlus, korrosioonikindlus, kõrge temperatuurikindlus ja muud omadused. Need suurepärased omadused muudavad CVD ränikarbiidkatted laialdaselt kasutatavaks...Loe edasi -
Kas CVD ränikarbiidkatetel on suurepärased summutusomadused?
Jah, CVD ränikarbiidkatetel on suurepärased summutusomadused. Summutamine viitab objekti võimele hajutada energiat ja vähendada vibratsiooni amplituudi, kui see on vibratsiooni või löögi all. Paljudes rakendustes on summutusomadused väga olulised...Loe edasi -
Ränikarbiidist pooljuht: keskkonnasõbralik ja tõhus tulevik
Pooljuhtmaterjalide valdkonnas on ränikarbiid (SiC) kujunenud paljutõotavaks kandidaadiks järgmise põlvkonna tõhusate ja keskkonnasõbralike pooljuhtide jaoks. Oma ainulaadsete omaduste ja potentsiaaliga sillutavad ränikarbiidist pooljuhid teed säästlikumale...Loe edasi -
Ränikarbiidist vahvelpaatide kasutusvõimalused pooljuhtide valdkonnas
Pooljuhtide valdkonnas on materjalide valik seadme jõudluse ja protsesside arendamise seisukohalt kriitilise tähtsusega. Viimastel aastatel on ränikarbiidist vahvlid kui esilekerkiv materjal äratanud laialdast tähelepanu ja näidanud suurt potentsiaali pooljuhtide valdkonnas. Räni...Loe edasi -
Ränikarbiidkeraamika rakendusväljavaated fotogalvaanilise päikeseenergia valdkonnas
Viimastel aastatel, kui ülemaailmne nõudlus taastuvenergia järele on kasvanud, on fotogalvaaniline päikeseenergia muutunud üha olulisemaks puhta ja säästva energiavalikuna. Fotogalvaanilise tehnoloogia arendamisel on materjaliteadusel ülioluline roll. Nende hulgas ränikarbiidkeraamika,...Loe edasi -
Tavaliste TaC-ga kaetud grafiitdetailide valmistamismeetod
PART/1 CVD (keemiline aurustamise-sadestamine) meetod: temperatuuril 900–2300 ℃, kasutades tantaali- ja süsinikuallikatena TaCl5 ja CnHm, redutseeriva atmosfäärina H2, kandegaasi Ar2, reaktsioonisadestamise kilet. Valmistatud kate on kompaktne, ühtlane ja kõrge puhtusastmega. Siiski on mõned pro...Loe edasi -
TaC-ga kaetud grafiitdetailide pealekandmine
OSA/1 Tiigel, seemnehoidja ja juhtrõngas SiC ja AIN monokristallahjus kasvatati PVT meetodil Nagu on näidatud joonisel 2 [1], kui ränikarbiidi valmistamiseks kasutatakse füüsikalist aurutranspordi meetodit (PVT), on idukristall suhteliselt madala temperatuuriga piirkond, SiC r...Loe edasi